簡要描述:開啟式管式爐在真空壓力下,加在電感線圈的射頻電場,使反應(yīng)室氣體發(fā)生輝光放電,在輝光發(fā)電區(qū)域產(chǎn)生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量,其本身溫度很高,它與氣體分子相碰撞,使氣體分子活化。它們吸附在襯底上,并發(fā)生化學反應(yīng)生成介質(zhì)膜,副產(chǎn)物從襯底上解吸,隨主氣流由真空泵抽走,稱為等離子體增強化學氣相沉(PECVD)。
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開啟式管式爐
在真空壓力下,加在電感線圈的射頻電場,使反應(yīng)室氣體發(fā)生輝光放電,在輝光發(fā)電區(qū)域產(chǎn)生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量,其本身溫度很高,它與氣體分子相碰撞,使氣體分子活化。它們吸附在襯底上,并發(fā)生化學反應(yīng)生成介質(zhì)膜,副產(chǎn)物從襯底上解吸,隨主氣流由真空泵抽走,稱為等離子體增強化學氣相沉(PECVD)。
PECVD開啟式管式爐系統(tǒng)由開啟式管式爐、高真空分子泵系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)及多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)組成,是實驗室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等的理想選擇。
開啟式管式爐系統(tǒng)主要功能和特點:
1、PECVD具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質(zhì)量好、針孔較少、不易龜裂等;
2、PECVD工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應(yīng)氣體分子,就會使中性反應(yīng)氣體分子變成碎片或處于激活的狀態(tài)容易發(fā)生反應(yīng);
3、借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜;
4、高真空系統(tǒng)由雙級旋片真空泵和分子泵組成,真空可達0.001Pa;
5、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計,流量顯示儀等組成,實現(xiàn)氣體的流量的精密測量和控制;
6、每條氣體管路均配備高壓逆止閥,保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性;
7、采用KF快速法蘭密封,裝卸方便快捷;
8、管路采用世界*Swagelok卡套連接,不漏氣;
9、超溫、過壓時,自動切斷加熱電源及流量計進氣,使用安全可靠。
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